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第十七届“中国光谷”知识产权国际论坛在湖北武汉召开

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  2019年11月13日,第十七届“中国光谷”知识产权国际论坛在中国光谷科技会展中心举行。

  本届论坛以“建设知识产权保护运用高地,全面优化营商环境”为主题,吸引了来自美国、德国、韩国和中国等国家和地区的知识产权官员、学者、律师以及知识产权工作者进行交流和探讨。

  国家知识产权局知识产权运用促进司副司长梁春花表示,湖北科教人才资源高度密集,高新技术产业发展优势明显。此次论坛集聚了国际、国内知识产权界大批高层次人才,大家深入交流、广泛研讨,有助于拓宽高新区企业的知识产权战略视野,促进高新区知识产权运用保护水平的有效提升,助推东湖高新区乃至全省经济高质量发展。

  据悉,自2001年开始举办第一届“武汉.中国光谷”知识产权保护国际论坛以来,该论坛已连续举办了17届,成为国内外专家学者、企业知识产权实务工作者研究知识产权热点问题、交流知识产权工作经验的重要平台,对促进武汉将科教优势转化为知识产权优势、提高高新技术企业知识产权运用和保护能力起到了积极推动作用。

  今年7月,世界知识产权组织发布《2019年全球创新指数(GII)》。报告显示,武汉的创新指数跻身世界区域创新集群百强第38位,比2018年的世界排位上升5位,位列中国19个集群中的第7位,武汉知识产权事业的可持续健康发展为武汉建设具有全球影响力的产业创新中心和国家知识产权示范城市提供了有力支撑。

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